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スタンダードは，Gases Global Technical Committeeで技術的に承認されている。現版は2011年9月12日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2011年11月にwww
The effect of color breakup (CBU) occurs in the panels in which the field sequential technique is used
may be constructed with only minimal knowledge of the host
MASK specification applies to the input data format for mask tools
M05900 - SEMI M59 - シリコン技術の用語集 StdPbc-0425 スタンダードは，Gases Global Technical Committeeで技術的に承認されている。現版は2011年9月12日，global Auditsglobal Silicon Wafer Committee20101221global Audits and Reviews Subcommittee20112www. semiviews. org www. semi. org 2005320103 IC Referenced SEMI Standards SEMI M1 Specifications for Polished Single Crystal Silicon Wafers SEMI M20 Practice for Establishing a Wafer Coordinate System SEMI MF1811 Guide for Estimating the Power Spectral Density Function and Related Finish Parameters from Surface Profile Data
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